拓荆科技获得实用新型专利授权：“一种背面沉积的工艺腔室及半导体器件的背面沉积设备”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示拓荆科技（688072）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种背面沉积的工艺腔室及半导体器件的背面沉积设备”，专利申请号为CN202422630995.1，授权日为2025年10月24日。

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专利摘要：本实用新型提供了一种背面沉积的工艺腔室，以及一种半导体器件的背面沉积设备。所述背面沉积的工艺腔室包括：加热板，位于所述工艺腔室的上部，用于加热晶圆的正面，其中，所述加热板上设有多个过气通孔；喷淋板，位于所述工艺腔室的下部，用于向所述晶圆的背面提供工艺气体，以配合所述加热板对所述晶圆进行背面薄膜沉积；以及第一进气口，位于所述加热板之上，用于向所述加热板的上方提供清洁气体，其中，所述清洁气体经由所述加热板上的所述多个过气通孔，均匀地流动至所述加热板与所述喷淋板之间中心区域，以清洁所述中心区域。

今年以来拓荆科技新获得专利授权54个，较去年同期增加了116%。结合公司2025年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了3.01亿元，同比减4.33%。

通过天眼查大数据分析，拓荆科技股份有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目98次；财产线索方面有商标信息110条，专利信息714条，著作权信息32条；此外企业还拥有行政许可32个。

数据来源：天眼查APP

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